目前，世界和中国的电子化学品通常是实施的SEMI在国际标准中，其关键技术指标包括单金属离子、单阴离子、颗粒数等，其他技术指标将根据不同产品的特点相应增加。
电子化学品质量标准的演变
为规范世界超净高纯试剂标准，SEMI（Semiconductor Equipment and Materials International，国际半导体设备与材料协会成立于1975年SEMI化学试剂标准化委员会，国际统一标准专门制定和规范超净高纯试剂—SEMI标准。
1978年，德国伊默克公司也制定了MOS标准。1978年，德国的伊默克公司也制定了MOS标准。这两个标准侧重于超纯高纯化学品中金属杂质和（灰尘）颗粒的要求，分别适用于不同级别IC生产要求。
国际公认的电子化学品标准大致可分为四类：一类是SEMI基于美国试剂标准的一类是德国E.Merck欧洲试剂标准主要是标准；一种是日本关东化学（Kanto）和光纯药行业（Wako）以湿电子化学品为代表的日本试剂标准；另一种是REA以公司为代表的俄罗斯试剂标准。ULSI随着全球的快速发展，这些标准逐渐接近，但SEMI标准在世界范围内更早得到普遍认可。
电子化学品SEMI标准
进入21世纪，国际化SEMI标准化组织又根据电子化学品在世界范围内的实际发展情况对原有的分类体系进行了归并，按品种进行分类，每个品种归并为一个指导性的标准，其中包括多个用于不同工艺技术的等级。对应不同技术水平的集成电路，电子化学品的标准越高，对纯度和清洁度的要求就越高。若给电子化学品分级或等级，则用于≥1.2μm属于低档产品(需采用)SEMI C湿电子化学品1级)，0级.8～1.2μm属于中低档产品(需采用)SEMI C7级电子化学品)，0级.2～0.6μm属于中高档产品(需采用)SEMI C8级电子化学品)。0.09～0.2μm和<0.09μm属于高档产品(需采用)SEMI C12级电子化学品)，其中≥1.2μm和0.8～1.2μm的硅片主要用于制作分立器件；0.2～0.6μm和0.09～0.2μm硅片主要用于大规模集成电路和超大规模集成电路的制造。可见，电子化学品制备的关键在于控制和满足杂质含量和粒度的要求。为了满足超纯高纯试剂的质量要求，需要从试剂净化、包装、供应系统和分析方法等多个方面进行保证。
目前，世界上常用的净化工艺有十多种，适用于蒸馏、蒸馏、连续蒸馏、盐熔化蒸馏、共沸蒸馏、亚沸腾蒸馏、等温蒸馏、减压蒸馏、升华、化学处理、气体吸收等不同成分和要求的超净高纯试剂的生产。超净高纯试剂在运输过程中容易受到污染，因此超净高纯试剂的包装和供应是电子化学品使用的重要组成部分。特别是颗粒控制的相关技术贯穿于环境控制、工艺控制、成品包装控制等环节。
目前，国际制备SEMI-C1到SEMI-C12级电子化学品的技术已经成熟。随着集成电路生产要求的提高，对湿电子化学品纯度的要求也在不断提高。从技术趋势来看，满足纳米级集成电路加工需求是未来超净高纯试剂的发展方向之一。国内电子化学品标准国内电子化学品等级较低，部分企业有自己的企业标准。20世纪90年代中后期，北京化学试剂研究所提出了当时中国最大的湿电子化学品生产和开发机构BV系列标准。当时以来，这一标准对国内湿电子化学品标准仍有很大影响。
我国部分企业使用的电子化学试剂按纯度分为三个等级：UP-S级、UP级、EL三级。
（1）UP-S级：UP-S级适用0.35~0.8微米集成电路加工工艺，金属杂质含量小于1ppb，经过0.05微米孔径过滤器过滤，控制0.在100级净化环境中灌装2微米粒子SEMI C8标准。
（2）UP级：UP适用于1微米集成电路TFT-LCD金属杂质含量小于10ppb，经过0.2微米孔径过滤器过滤，0控制.5微米粒子，在100级净化环境中灌装，达到SEMI C7标准。
（3）EL级：EL金属杂质含量小于1000ppb，控制1微米粒径粒子SEMI C1、C适用于中小型集成电路和电子元件的加工工艺。
英格尔，聚力价值信任
- 标准规范
|
- 合作伙伴
|
- 仪器设备
|
- 集团优势
恪守全球标准规范
大型企业、政府机构、高效研发机构
一线品牌（沃特世、赛默飞、安捷伦、戴安等）高配实验室设备
全方位的服务内容，多领域的服务能力，规模化的服务平台、高品质的服务质量
上一篇：
电子化学品标准 下一篇：
湿电子化学品 
